美國不斷限制歐美日的芯片設備商給中國芯片供應先進設備，已產生后果，多家歐美日的芯片設備企業(yè)從中國市場獲得的收入大跌，他們紛紛試圖尋找可替代市場來彌補損失，然而就目前的市場現實來說，根本不可能。
美國最大的芯片設備和材料企業(yè)應用材料就表示中國市場貢獻的收入占比已下跌至30%，較高峰期的44%大幅下跌了14個百分點，并預期今年從中國市場獲得的收入還將進一步下跌。
應用材料還表示不僅對中國銷售的芯片設備和材料收入可能進一步下降，就連之前已賣出的芯片設備因為被美國阻止為中國芯片企業(yè)提供售后服務，這一項收入大約4億美元，這部分可以說是純收入，也將失去。
應用材料在中國市場蒙受損失不過是其中之一，美國的泛林、科磊；日本的東京電子、荷蘭的ASML從中國市場獲取的收入也在下降，在美國的影響下，這些芯片設備企業(yè)都被迫減少對中國銷售先進的芯片設備和材料。
美國此舉是為了阻止中國發(fā)展先進芯片，然而此舉正在加速中國芯片設備的發(fā)展，從2024年的情況可以看出中國的芯片設備正不斷加速替代進口設備，美國的做法只會讓歐美日的芯片設備企業(yè)蒙受更大的損失。
中國芯片在過去數年大舉采購光刻機等設備，普遍認為中國囤積的光刻機等設備已足夠滿足未來數年的需求，美國的做法對中國芯片的影響將較為有限，相反這正激發(fā)中國芯片設備行業(yè)努力奮斗，突破技術局限。
中國多家芯片設備企業(yè)這幾年的收入都快速增長，動輒就是增長50%以上，說明國內的芯片制造行業(yè)主動以國產芯片設備替代進口設備，這些芯片設備獲得了更多收入，在技術方面也在快速突破。
其中發(fā)展最快的當屬刻蝕機，刻蝕機的技術基本與芯片制造行業(yè)最先進的臺積電同步，臺積電量產5納米后不久，中微電子就研發(fā)出了5納米刻蝕機并供應給臺積電，去年底中微電子又已研發(fā)出3納米刻蝕機，凸顯出國內芯片設備行業(yè)的飛速發(fā)展。
美國意圖阻止中國發(fā)展先進工藝，但是隨著國內手機芯片以國產芯片制造工藝實現接近先進工藝的性能，說明國內的芯片制造依托于現有的設備和國內的芯片設備也打破了芯片工藝的極限，美國限制對中國供應先進芯片設備的影響越來越小。
可以說阻礙中國芯片發(fā)展的最后環(huán)節(jié)應該只剩下光刻機，不過國內的諸多研發(fā)機構如哈工大等在EUV光刻機技術方面也正一步步推進，以點帶面，最終實現國產EUV光刻機將是必然的，到那時候中國芯片將徹底擺脫海外芯片設備的限制。
中國采購了全球近七成的芯片，中國芯片產能又已占全球芯片市場三成以上份額，巨大的市場規(guī)模，美國阻止歐美日的芯片設備商對中國銷售先進芯片設備，后果是他們的收入將會持續(xù)減少，而中國芯片設備一旦完善，他們將徹底失去這個龐大的市場，到時候他們將會后悔莫及。
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