近日，據(jù)國家知識產權局官網(wǎng)消息，華為技術有限公司于11月15日公布了一項于光刻技術相關的專利，專利申請?zhí)枮?02110524685X。

集成電路制造中，光刻覆蓋了微納圖形的轉移、加工和形成環(huán)節(jié)，決定著集成電路晶圓上電路的特征尺寸和芯片內晶體管的數(shù)量，是集成電路制造的關鍵技術之一。

隨著半導體工藝向7nm及以下節(jié)點的推進，極紫外(extreme ultraviolet，EUV)光刻成為首選的光刻技術。

相關技術的EUV光刻機中采用強相干光源在進行光刻時，相干光經照明系統(tǒng)分割成的多個子光束具有固定的相位關系，當這些子光束投射在掩膜版上疊加時會形成固定的干涉圖樣，出現(xiàn)有明暗變化、光強不均勻的問題，因此，必須先進行去相干處理(或者采用避免相干影響)，達到勻光效果，以保證光刻工藝的正常進行。

據(jù)披露，該專利申請?zhí)峁┮环N反射鏡、光刻裝置及其控制方法，涉及光學領域，能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，在極紫外光的光刻裝置基礎上進行了優(yōu)化，進而達到勻光的目的。

該光刻裝置包括相干光源1、反射鏡2(也可以稱為去相干鏡)、照明系統(tǒng)3。其中，反射鏡2可以進行旋轉；例如，可以在光刻裝置中設置旋轉裝置，反射鏡2能夠在旋轉裝置的帶動下發(fā)生旋轉，如下圖所示。

在該光刻裝置中，相干光源1發(fā)出的光線經旋轉的反射鏡2的反射后，通過照明系統(tǒng)3分割為多個子光束并投射至掩膜版4上，以進行光刻。

另外，在光刻裝置中，上述照明系統(tǒng)3作為重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明(勻光)、控制曝光劑量和實現(xiàn)離軸照明等，以提高光刻分辨率和增大焦深。述照明系統(tǒng)3的勻光功能可以是通過科勒照明結構實現(xiàn)。

該照明系統(tǒng)3包括視場復眼鏡31(field flyeye mirror，F(xiàn)FM)、光闌復眼鏡 32(diaphragm flyeye mirror，PFM)、中繼鏡組33；

其中，中繼鏡組33通?？梢园▋蓚€或者兩個以上的中繼鏡。照明系統(tǒng)3通過視場復眼鏡31將來自相干光源 1 的光束分割成多個子光束，每個子光束再經光闌復眼鏡32進行照射方向和視場形狀的調整，并通過中繼鏡組33進行視場大小和 / 或形狀調整后，投射到掩膜版4的照明區(qū)域。

通過在相干光源1與照明系統(tǒng)3之間的光路上設置反射鏡2，在此情況下，相干光源1發(fā)出的光線經旋轉的反射鏡2反射后相位不斷發(fā)生變化。

這樣一來，在經反射鏡2反射后的光線通過照明系統(tǒng)3分割為多個子光束并投射至掩膜版4上時，形成在掩膜版4的照明區(qū)域的干涉圖樣不斷變化，從而使得照明視場在曝光時間內的累積光強均勻化，從而達到勻光的目的，進而也就解決了相關技術中因相干光形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題。

生成海報

免責聲明：本網(wǎng)站內容主要來自原創(chuàng)、合作伙伴供稿和第三方自媒體作者投稿，凡在本網(wǎng)站出現(xiàn)的信息，均僅供參考。本網(wǎng)站將盡力確保所提供信息的準確性及可靠性，但不保證有關資料的準確性及可靠性，讀者在使用前請進一步核實，并對任何自主決定的行為負責。本網(wǎng)站對有關資料所引致的錯誤、不確或遺漏，概不負任何法律責任。任何單位或個人認為本網(wǎng)站中的網(wǎng)頁或鏈接內容可能涉嫌侵犯其知識產權或存在不實內容時，應及時向本網(wǎng)站提出書面權利通知或不實情況說明，并提供身份證明、權屬證明及詳細侵權或不實情況證明。本網(wǎng)站在收到上述法律文件后，將會依法盡快聯(lián)系相關文章源頭核實，溝通刪除相關內容或斷開相關鏈接。