外媒報(bào)道指日本芯片企業(yè)Rapidus預(yù)計(jì)明年就能試產(chǎn)2納米，最快在2027年實(shí)現(xiàn)規(guī)模量產(chǎn)，如此Rapidus將成為全球第三家或第四家量產(chǎn)2納米工藝的芯片企業(yè)，這可能重振日本芯片，有可能也是美國(guó)有意為之。

日本芯片企業(yè)Rapidus為一家由豐田、電裝、索尼等8家企業(yè)巨頭投資、日本政府牽頭成立的企業(yè)，日本希望借此重振芯片產(chǎn)業(yè)。

日本芯片在1980年代曾達(dá)到巔峰，當(dāng)時(shí)日本芯片占全球芯片市場(chǎng)的份額高達(dá)五成，日本企業(yè)家曾聲言沒有日本芯片，美國(guó)連收音機(jī)都生產(chǎn)不出來(lái)。

日本當(dāng)時(shí)的猖狂迅速導(dǎo)致美國(guó)的打壓，此后韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣的芯片產(chǎn)業(yè)崛起，日本芯片產(chǎn)業(yè)逐漸走下坡路，到如今日本芯片占全球芯片市場(chǎng)的份額僅有10%左右。

不過日本芯片行業(yè)仍然有一定的底蘊(yùn)，全球三大光刻機(jī)企業(yè)，有兩家就是日本企業(yè)，分別是尼康和佳能，只不過它們還停留在干式光刻機(jī)上，日本光刻機(jī)可以生產(chǎn)的最先進(jìn)工藝也只有28納米左右。

佳能在光刻機(jī)市場(chǎng)受挫后，后來(lái)開發(fā)發(fā)展無(wú)需光刻機(jī)的NIL技術(shù)，據(jù)悉NIL技術(shù)已能達(dá)到5納米，但是仍然與光刻機(jī)巨頭ASML存在很大的差距，ASML的第二代EUV光刻機(jī)可以用于生產(chǎn)2納米及更先進(jìn)工藝。

如今全球芯片制造技術(shù)較量主要在Intel、三星和臺(tái)積電之間展開，Intel在芯片制造工藝方面最先進(jìn)可達(dá)到7納米，Intel將它自家的7納米命名為Intel 4工藝，但是在研發(fā)Intel 18A工藝上卻面臨困難，如今的Intel陷入巨虧之中，原CEO基辛格也在上個(gè)月在董事會(huì)的壓力下退休，這更讓它在研發(fā)先進(jìn)工藝方面存在變數(shù)。

三星已成為唯一可以制衡臺(tái)積電的芯片制造企業(yè)，但是三星的5納米工藝晶體管密度不如臺(tái)積電，3納米工藝良率遠(yuǎn)低于臺(tái)積電，導(dǎo)致美國(guó)芯片紛紛撤走訂單而交給臺(tái)積電，臺(tái)積電如今可謂在芯片制造行業(yè)一家獨(dú)大。

臺(tái)積電當(dāng)然不會(huì)錯(cuò)過機(jī)會(huì)，臺(tái)積電宣稱明年將再對(duì)7納米及以下工藝漲價(jià)一成，而美國(guó)芯片只能無(wú)奈接受，這進(jìn)一步讓美國(guó)認(rèn)識(shí)到過于依賴臺(tái)積電不是好事，此時(shí)日本芯片有意發(fā)展2納米可能就成為美國(guó)扶持的對(duì)象。

這次日本芯片企業(yè)Rapidus發(fā)展的2納米工藝就與美國(guó)企業(yè)IBM合作，在IBM的支持下，Rapidus的2納米工藝也會(huì)引入GAAFET技術(shù)，在技術(shù)參數(shù)方面與臺(tái)積電的2納米完全相同，可以看出日本的野心，一開始就與臺(tái)積電站在同一起跑線。

美國(guó)支持日本研發(fā)2納米工藝，可以認(rèn)為美國(guó)對(duì)自己的芯片企業(yè)發(fā)展先進(jìn)工藝已陷入絕望，因此試圖扶持日本重新發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)，制衡臺(tái)積電，這樣讓美國(guó)芯片在制造方面多一個(gè)選擇，有利于美國(guó)芯片的長(zhǎng)遠(yuǎn)發(fā)展。

但是此舉未必會(huì)完全如美國(guó)所愿，就如當(dāng)年日本芯片達(dá)到巔峰的時(shí)候，日本企業(yè)也曾喊出挑戰(zhàn)美國(guó)的聲音，日本一直都有自己的野心，如果日本芯片再度崛起，美國(guó)還能如之前那樣迅速控制日本芯片么？

生成海報(bào)

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