某科技企業(yè)的高管在接受采訪的時候表示當(dāng)前能搞定7納米已是很了不起的成就,那些動不動就吹噓說突破5納米、3納米脫離了現(xiàn)實,這無疑是在當(dāng)下躁動的社會中給予重錘,提醒各方不要過于狂妄自大。
該名高管表示我們芯片制造的技術(shù)與國際還有較大差距,婉轉(zhuǎn)地說出芯片制造工藝并不能單純靠人力來進(jìn)行技術(shù)突破,設(shè)備才是芯片制造的關(guān)鍵,沒有先進(jìn)的設(shè)備,先進(jìn)芯片制造工藝就無米下鍋。
在開發(fā)先進(jìn)芯片方面,應(yīng)該轉(zhuǎn)變思路,通過加強系統(tǒng)架構(gòu)、軟件算法和異構(gòu)計算的研究,可以在技術(shù)上找到補償,從而研發(fā)出高性能的芯片,在先進(jìn)芯片技術(shù)競爭中找到獨特的優(yōu)勢和特色。
這揭示了芯片制造的事實,芯片是一種高精密的產(chǎn)品,早已脫離了人力掌控的范圍,需要借助多種先進(jìn)設(shè)備實現(xiàn)。在芯片設(shè)計階段,就已引入了現(xiàn)代化的芯片設(shè)計工具,高度密集的晶體管,完全不是人力畫圖能實現(xiàn),需要借助計算機來進(jìn)行繪圖,然后交給芯片工廠的設(shè)備,芯片工廠的設(shè)備同樣需要依賴先進(jìn)的芯片工具來解釋圖紙然后生產(chǎn)芯片。
對于芯片制造來說,也早已超出了人力范圍,這幾十年芯片制造設(shè)備一直都在升級中,從早年的干式光刻機到浸潤式光刻機,再到如今的EUV光刻機,這些先進(jìn)的芯片設(shè)備實現(xiàn)了人力所未能達(dá)到的高度。
全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的是ASML,而全球能生產(chǎn)光刻機的企業(yè)也只有4家左右,日本兩家,中國一家,ASML是荷蘭的,而7納米以下的光刻機就只有ASML能生產(chǎn),因為光刻機是高度精密的儀器,即使強如ASML,也只能生產(chǎn)EUV光刻機大約10%的部件,其他部件需要全球5000多家企業(yè)合作。
全球制造芯片技術(shù)最先進(jìn)的僅有三星和臺積電,美國的Intel曾是全球芯片制造技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者,不過從2014年量產(chǎn)14納米之后,Intel就放緩了創(chuàng)新的步伐,而三星和臺積電則保持了1-2年升級一代芯片制造技術(shù)的步伐,從而超過了Intel,成為芯片制造技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)者。
臺積電又稍微領(lǐng)先三星一籌,不過強如臺積電以現(xiàn)有的DUV光刻機也只是做到7納米,隨后臺積電就引入EUV光刻機生產(chǎn)出7納米EUV工藝,而且證明了EUV光刻機生產(chǎn)的7納米工藝性能較DUV光刻機生產(chǎn)大幅提升了性能并降低了功耗。
臺積電尚且無法實現(xiàn)以DUV光刻機生產(chǎn)5納米,這里的專家卻不斷吹噓可以DUV光刻機生產(chǎn)5納米,甚至突破到3納米,如今某科技企業(yè)的高管也忍不住了指出這太荒謬,人力終究有極限,以現(xiàn)有的DUV光刻機生產(chǎn)5納米并不靠譜,7納米已很可能就是極限,在無法得到先進(jìn)的EUV光刻機之前,應(yīng)該考慮的是芯片架構(gòu)、軟件算法等方面來提升整體性能,而不是虛妄的吹噓以DUV光刻機生產(chǎn)5納米。
技術(shù)是靠腳踏實地的研究推進(jìn)的,絕不是靠吹噓實現(xiàn)的,浮躁無法實現(xiàn)先進(jìn)技術(shù),某科技企業(yè)的高管無疑給這種浮躁淋了一盆冷水,讓各方好好反思一下吹牛的風(fēng)氣,思考下如何研發(fā)才是正確的方向,錯誤的方向最終只會浪費資源,無法實現(xiàn)先進(jìn)技術(shù)。
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