昨天今日,一條“英特爾推出7nm芯片”的新聞傳遍中國(guó)主流科技媒體,部分科技博客媒體甚至稱“IBM憑此打了英特爾的臉”。作為一個(gè)在長(zhǎng)期全球排名前三的IC公司混過三年的人,朱飛對(duì)這一消息的第一印象是——不相信,這里面至少存在敘述不準(zhǔn)確或夸大其詞的地方。
為此,我嘗試查詢消息的來源,在綜合紐約時(shí)報(bào)、Datacenterknowledge等國(guó)外網(wǎng)站的報(bào)道后,基本可以確定國(guó)內(nèi)媒體夸大其實(shí)了。IBM沒有推出7nm制式的芯片,只是在實(shí)驗(yàn)室取得進(jìn)展而已。
經(jīng)極客網(wǎng)查證,原本消息是,IBMResearch宣布,IBM、GlobalFoundries、三星和紐約州立大學(xué)理工學(xué)院(SUNYPolytechnicInstitute)納米科學(xué)和工程系聯(lián)手研發(fā)出業(yè)界首個(gè)配備功能性晶體管的7nm測(cè)試芯片——是實(shí)驗(yàn)室測(cè)試芯片,并非推出或造出,更未讓英特爾難堪。
上述外媒的報(bào)道強(qiáng)調(diào),“要制造出7nm制式的半導(dǎo)體芯片還需要很長(zhǎng)的時(shí)間。”IBMResearch半導(dǎo)體技術(shù)副總裁MukeshKhare稱,通過使用SiGe(鍺硅)材料及極紫外(EUV)光刻技術(shù),IBMResearch的研究員得以完成上述7nm測(cè)試芯片。
朱飛總結(jié)下來:一,這是一塊測(cè)試芯片,還停留在實(shí)驗(yàn)室階段;二,這塊測(cè)試芯片采用昂貴的鍺硅材料,這種材料的芯片尚未被證明能夠在民用領(lǐng)域推廣,因?yàn)槌杀咎?;三,這塊芯片采用了非同尋常的蝕刻工藝。
實(shí)驗(yàn)室和商用是兩碼事,其中材料、工藝都是影響商用的致命因素。想當(dāng)年,第一個(gè)發(fā)明IC的德州儀器年輕員工杰克·基爾比就是基于鍺制出第一個(gè)集成電路的,這種材料并沒有促使IC快速發(fā)展,直到羅伯特·諾伊思發(fā)明基于硅的集成電路,IC才正式開啟快速商用之旅。所以直到今日,關(guān)于IC到底是誰發(fā)明的還存在爭(zhēng)議,而杰克·基爾比,也直到他發(fā)明IC 40年后猜得到諾貝爾獎(jiǎng)的認(rèn)可?,F(xiàn)在,業(yè)內(nèi)人一般認(rèn)為,是基爾比和諾伊斯共同完成了這一創(chuàng)舉。
其實(shí),業(yè)內(nèi)人都知道,要講芯片制式的領(lǐng)先,沒有廠商可以挑戰(zhàn)英特爾。據(jù)朱飛了解,要論“吹?!保⑻貭柷叭蜟EO保羅·歐德寧(PaulOtellini)三年前就表示,英特爾已開始對(duì)7納米和5納米制程技術(shù)的研究。
近期,英特爾高級(jí)研究員馬克·玻爾(MarkBohr)在一個(gè)技術(shù)交流場(chǎng)合表示,當(dāng)前半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展速度能維持到10納米之后(預(yù)計(jì)是2016年),無需轉(zhuǎn)向成本高昂的材料和高深的制造技術(shù)——例如紫外線激光蝕刻——廠商就可以生產(chǎn)出7納米芯片,預(yù)計(jì)時(shí)間是2018年。
作者:朱飛,微信公眾號(hào)zhufei101。首發(fā)極客網(wǎng),百度百家、今日頭條、搜狐自媒體、IBTimes同步更新,轉(zhuǎn)載務(wù)請(qǐng)保留此段。
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