7月6日消息（顏翊）據(jù)報(bào)道，ASML試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令，計(jì)劃面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版DUV光刻機(jī)。

為規(guī)避銷售禁令，ASML正在考慮推出一款特殊版本的深紫外光刻（DUV）工具，該工具將符合最新的美國(guó)出口規(guī)定，可以在沒(méi)有許可證的情況下運(yùn)給中國(guó)客戶。這款設(shè)備將使中芯國(guó)際（SMIC）和華虹等公司能夠在28納米級(jí)及以上制程上制造芯片。

該特別版光刻機(jī)是基于Twinscan NXT:1980Di改造，目前這是臺(tái)積電仍在投入生產(chǎn)的最低級(jí)別的型號(hào)，該機(jī)器具備1.35數(shù)值孔徑光學(xué)系統(tǒng)，分辨率小于38納米，理論上支持7納米級(jí)及更先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)。事實(shí)上，這臺(tái)光刻機(jī)最初于2016年發(fā)布，曾被臺(tái)積電用于開發(fā)其7納米級(jí)工藝技術(shù)。

報(bào)道稱，ASML可以對(duì)該設(shè)備進(jìn)行改造，提高其最低支持的分辨率，以防止中芯國(guó)際和其他中國(guó)芯片制造商制造低于28納米的工藝技術(shù)?？紤]到中芯國(guó)際絕大部分收入來(lái)自28納米及以上的生產(chǎn)節(jié)點(diǎn)，中國(guó)公司很可能仍然對(duì)采購(gòu)這類工具感興趣。

根據(jù)最新的出口法規(guī)，美國(guó)公司和個(gè)人必須獲取許可證才能出口能夠制造14納米/16納米及以下制程的非平面晶體管結(jié)構(gòu)的邏輯芯片、128層及以上的3D NAND以及半間距18納米以下的DRAM存儲(chǔ)芯片的工具和技術(shù)。對(duì)于從美國(guó)出口組件的非美國(guó)公司，同樣適用這些規(guī)定，ASML和Twinscan NXT:1980Di也受到限制。

根據(jù)最新的荷蘭出口規(guī)定，ASML需要獲取出口許可證才能向中國(guó)公司銷售Twinscan NXT:2000i光刻機(jī)。ASML尚未正式推出Twinscan NXT的特別版本，但如果出口規(guī)定繼續(xù)限制向中國(guó)銷售先進(jìn)技術(shù)，此舉似乎是可能的。

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