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    三星電子計劃開發(fā)下一代EUV薄膜 透光率達92%

    2月14日消息(顏翊)三星電子已經(jīng)開始開發(fā)一種先進的極紫外(EUV)薄膜,以縮小其與代工對手臺積電的市場份額差距。

    三星半導體研究所最近的一份招聘通知中提到,將開發(fā)一種透光率為92%的EUV薄膜。

    此前報道顯示,三星電子已經(jīng)開發(fā)出透光率高達88%的EUV薄膜,而且已經(jīng)可以大規(guī)模生產(chǎn)。這意味著這家韓國科技巨頭已經(jīng)達成上述目標,并提出了一個新的發(fā)展路線圖,將透光率提高4個百分點。

    三星電子還開始研究用于High-NA EUV的薄膜,這被稱為下一代的EUV工藝,該工藝的開發(fā)將基于新材料。該公司宣布將與外部研究機構(gòu)合作,開發(fā)和評估由碳納米管和石墨烯制成的EUV薄膜。該公司還計劃挑選一些研究人員,負責為該公司自行開發(fā)的納米石墨薄膜(NGF)設(shè)計大規(guī)模生產(chǎn)設(shè)施。

    EUV薄膜是半導體光刻工藝中的必備材料,它們可以作為一種覆蓋物,阻止外來物質(zhì)附著在掩模上,可以最大限度地減少生產(chǎn)過程中的缺陷并延長昂貴的掩模的壽命來幫助降低成本。

    然而,由于EUV光被大多數(shù)材料吸收的特性,想要商業(yè)化很困難。盡管三星電子已經(jīng)提高了薄膜的技術(shù)水平,但專家們判斷將這種材料大規(guī)模量產(chǎn)的時機還未成熟。

    三星電子的競爭對手臺積電從2019年其已在其量產(chǎn)線上使用自己研發(fā)的EUV薄膜。這家中國臺灣代工巨頭在2021年宣布,與2019年相比,其EUV薄膜產(chǎn)能提高了20倍。

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    2023-02-14
    三星電子計劃開發(fā)下一代EUV薄膜 透光率達92%
    三星電子計劃開發(fā)下一代EUV薄膜 透光率達92%,C114訊 2月14日消息(顏翊)三星電子已經(jīng)開始開發(fā)一種先進的極紫外(EUV)薄膜,以縮小其與代工

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