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    中芯國際續(xù)單ASML光刻機后 國產(chǎn)光刻膠迎重大進展

    繼中芯國際續(xù)單ASML光刻機后,國產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域再迎喜訊。

    周一(8日)盤后,上海新陽公告稱,經(jīng)各方積極協(xié)商、運作,ASML-1400光刻機設(shè)備于今日已進入合作方北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司場地,后續(xù)將進行安裝調(diào)試等相關(guān)工作。公司采購的ASML干法光刻機設(shè)備順利交付,對加快193nm ArF干法光刻膠產(chǎn)品開發(fā)進度有積極影響。

    值得一提的是,天眼查顯示,合作方北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司大股東為芯鏈融創(chuàng)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展(北京)有限公司,后者由北京凱世通半導(dǎo)體有限公司在內(nèi)的26個國內(nèi)半導(dǎo)體優(yōu)質(zhì)公司共同出資組建。中芯國際、北京亦莊則占比各為25%并列為第二大股東。

    立項4年屢遭挫折 國產(chǎn)替代浪潮下終現(xiàn)曙光

    對于上海新陽本身來說,ASML干法光刻機設(shè)備順利交付意義非凡。公開資料顯示,早在2016年底,上海新陽即已立項研發(fā)193納米干法光刻膠,但在隨后的研發(fā)過程中進展屢遭挫折。

    2018年3月,上海新陽和上海逸納共同出資設(shè)立芯刻微,從事193nm干法高端光刻膠產(chǎn)品的研究與產(chǎn)業(yè)化工作,但雙方于次年5月終止合作;同年12月,公司以自有資金投資江蘇博硯電子科技有限公司,持有博硯電子公司10%的股權(quán),后者主要從事平板顯示產(chǎn)業(yè)用相關(guān)光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)、生產(chǎn)。

    2019年10月,上海新陽啟動合肥第二生產(chǎn)基地項目的建設(shè)。合肥基地占地115畝,總投資約6億元。按照部署,一期計劃投資3億元,占地50畝,達產(chǎn)后形成年產(chǎn)15000噸超純化學(xué)材料產(chǎn)品的生產(chǎn)能力。根據(jù)公司在定增公告中所說,此次定增擬將部分資金投資于該項目。

    進入2020年,上海新陽在該項目上的投入越發(fā)激進。8月,公司公告擬定增募資不超15億元,其中7.32億元用于集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化項目。主要開發(fā)ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3D NAND臺階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品,力爭于2023年前實現(xiàn)上述產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。

    11月,公司再次公告擬向特定對象發(fā)行股票募集資金總額不超過14.5億元,其中8.15億元再投上述項目。若項目按計劃進度進行,預(yù)計KrF厚膜光刻膠2021年開始實現(xiàn)少量銷售,2022年可實現(xiàn)量產(chǎn),預(yù)計ArF(干式)光刻膠項目在2022年可實現(xiàn)少量銷售,2023年開始量產(chǎn),預(yù)計當(dāng)年各項產(chǎn)品銷售收入合計可達近2億元。

    東吳證券分析師柴沁虎去年3月16日報告曾指出,上海新陽一直致力于進行半導(dǎo)體用光刻膠的產(chǎn)業(yè)化,雖然中間走過一段彎路,但參股博硯電子后,可以有效借鑒博硯電子的成功經(jīng)驗。同時,公司和博硯電子也有一定程度的產(chǎn)業(yè)協(xié)同,認為公司是國內(nèi)最有可能率先在集成電路制造用高端光刻膠取得實質(zhì)性突破的企業(yè)。

    阿斯麥關(guān)鍵設(shè)備“松綁” 國產(chǎn)高端光刻膠持續(xù)突破

    去年以來,國產(chǎn)替代浪潮席卷半導(dǎo)體行業(yè),而光刻膠作為半導(dǎo)體光刻工藝的核心材料,決定了半導(dǎo)體圖形工藝的精密程度和良率,成為了其中最受矚目的環(huán)節(jié)之一。

    2020年12月17日,南大光電公告稱,控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的193nm ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過客戶的使用認證,標志國內(nèi)第一支通過產(chǎn)品驗證的國產(chǎn)ArF光刻膠就此誕生,意味著長期被國外壟斷的ArF光刻膠終于邁出了國產(chǎn)化的第一步。

    據(jù)了解,按不同制程,半導(dǎo)體用光刻膠可分為EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠及G線、i線光刻膠,前三者均為高端光刻膠產(chǎn)品,產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)數(shù)據(jù)顯示,截至2019年國內(nèi)在g線/i線光刻膠僅達到20%自給率,而KrF光刻膠自給率不足5%,ArF光刻膠則完全依賴進口。

    高端光刻膠國產(chǎn)替代艱難的背后,是其研發(fā)過程中對高端光刻機的嚴重依賴。由于在研發(fā)光刻膠的過程中需要有對應(yīng)光刻機的支持,規(guī)模量產(chǎn)后需要在光刻機上不斷調(diào)試。而先進光刻機價格昂貴,國內(nèi)半導(dǎo)體材料公司難以承受,因而高端光刻膠基本被日本及歐美壟斷。

    就在本月3日,中芯國際公告稱,與荷蘭光刻機制造商阿斯麥簽訂購買單,金額達12.02億美元。另據(jù)《科創(chuàng)板日報》1日獨家獲悉,為中芯國際提供高制程(14nm及以上)工藝部分產(chǎn)品所需設(shè)備的美國設(shè)備商,已獲美許可證。

    對此,華金證券胡慧團隊3月7日報告認為,中芯國際14nm及以上成熟制程禁令“松綁”,代表著我國大陸晶圓代工龍頭在成熟制程上的發(fā)展前景進一步明朗,預(yù)期未來將有更多美國設(shè)備供應(yīng)商獲得供應(yīng)許可。

    中金公司彭虎團隊同日報告也指出,半導(dǎo)體設(shè)備和材料是高端制造業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ),結(jié)合中芯國際潛在成熟制程獲取美國設(shè)備許可證,建議關(guān)注上游設(shè)備及原材料的機會。

    另據(jù)華泰證券胡劍團隊2020年11月18日報告,在半導(dǎo)體供應(yīng)鏈安全逐漸得到重視的背景下,國產(chǎn)光刻膠研發(fā)和量產(chǎn)或?qū)⑻崴?,國?nèi)廠商紛紛計劃在被日美壟斷的半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域擴大投入,并在高端ArF光刻膠領(lǐng)域研發(fā)和量產(chǎn)持續(xù)突破。

    耗時超四年迎曙光 國產(chǎn)光刻膠再迎重大進展

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    2021-03-09
    中芯國際續(xù)單ASML光刻機后 國產(chǎn)光刻膠迎重大進展
    中芯國際續(xù)單ASML光刻機后 國產(chǎn)光刻膠迎重大進展,繼中芯國際續(xù)單ASML光刻機后,國產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域再迎喜訊。周一(8日)盤后,上海新陽公告稱,經(jīng)各

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