9月18日消息，近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱清華大學 EUV 項目把 ASML 的光刻機巨大化，實現(xiàn)了光刻機國產(chǎn)化，并表示這個項目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地。
對此，中國電子工程設(shè)計院有限公司（下稱“中國電子院”）18日下午發(fā)聲，稱該項目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。
中國電子院表示，簡單的說，HEPS 可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型 X 光機。它產(chǎn)生的小光束可以穿透物質(zhì)、深入內(nèi)部進行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界，HEPS 是進行科學實驗的大科學裝置，并不是網(wǎng)傳的光刻機工廠。
中國電子工程設(shè)計院有限公司創(chuàng)建于 1953 年，曾先后隸屬于電子工業(yè)部、信息產(chǎn)業(yè)部，2003 年由國務(wù)院國資委管理，2009 年并入國家開發(fā)投資集團有限公司。
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