7月6日消息，據(jù)報(bào)道，ASML 試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令，面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機(jī)。如果該項(xiàng)目繼續(xù)推進(jìn)，中芯國際、華虹等中國半導(dǎo)體企業(yè)可以繼續(xù)使用荷蘭的設(shè)備生產(chǎn) 28 納米及更成熟工藝的芯片。

根據(jù)中國臺灣《電子時(shí)報(bào)》報(bào)道，該特別版 DUV 光刻機(jī)基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造，而 1980Di 是 10 年前推出的舊型號，不在本次官方禁令范圍內(nèi)。

相比最新款產(chǎn)品，1980Di 的效率比較低，分辨率可以達(dá)到 <38 nm，理論上可以支持 7nm 工藝。之前大多數(shù)芯片企業(yè)用其來生產(chǎn) 14nm 及以上工藝芯片，很少使用其生產(chǎn) 7nm 芯片。

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