7月27日，在Inel Accelerated大會(huì)上，英特爾首席執(zhí)行官基辛格（Pat Gelsinger）表示，摩爾定律仍在持續(xù)生效。
在當(dāng)天大會(huì)上，英特爾公布了未來(lái)制程技術(shù)路線圖，同時(shí)介紹了下一代極紫外光刻（EUV）技術(shù)的使用計(jì)劃。根據(jù)進(jìn)展，英特爾有望得 獲得業(yè)內(nèi)第一臺(tái)High-NA EUV光刻機(jī)。而在客戶(hù)上，基辛格透露已與AWS簽約，該公司將成為第一個(gè)使用英特爾代工服務(wù)（IFS）封裝解決方案的客戶(hù)。同時(shí)，高通也將采用Intel 20A制程工藝技術(shù)，這一技術(shù)預(yù)計(jì)將在2024年推出。
在發(fā)布會(huì)上，英特爾公布了未來(lái)5年的技術(shù)路線圖，對(duì)芯片的制程工藝進(jìn)行了新的命名，10納米Enhanced SuperFin更名為“Intel 7”、Intel 7納米更名為“Intel 4”、其后是“Intel 3”、下一代將是“Intel 20A”、 “Intel 18A”。
此外，基辛格表示，預(yù)計(jì)在今年年底前宣布在歐洲以及美國(guó)的進(jìn)一步工廠布局。“這將是一筆足以支持大型晶圓廠的巨額投資，雖然我們自己已在推進(jìn)其中的一些投資項(xiàng)目，但同時(shí)歡迎美國(guó)和歐盟的政策制定者能夠以緊迫感采取行動(dòng)，加快我們和集成電路產(chǎn)業(yè)其他公司的項(xiàng)目進(jìn)展。”
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