1月15日消息,據國外媒體報道,根據臺積電公布的計劃,他們的3nm工藝,計劃在今年風險試產,2022年下半年大規(guī)模量產。
從此前的報道來看,臺積電3nm工藝的芯片生產工廠的主要建筑,在去年11月份就已經建成,接下來需要進行的是設備安裝等工作。
由于3nm工藝需要大量的極紫外光刻機等先進設備,工廠設備的投資也將非常巨大,加之繼續(xù)研發(fā)和風險試產方面的投入,臺積電今年在3nm工藝是上的投入預計會非常龐大。
而產業(yè)鏈人士透露,在臺積電計劃的2021年資本支出中,預計有超過150億美元將投向3nm工藝。
臺積電在財報中披露的2021年資本支出預期,是250億美元到280億美元,消息人士透露的超過150億美元,也就意味著臺積電今年超過半數的資本支出,將投向3nm工藝。
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